Ming Su1, Xiaogang Liu, Shu-You Li
1Department of Materials Science and Engineering, Northwestern University, Evanston, Illinois 60208, USA.
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Este estudio introduce un nuevo método de nanolitografía con pluma de inmersión para crear nanoestructuras compuestas. Esta técnica permite el patroneado preciso de materiales inorgánicos en superficies de silicio a nanoescala.
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