1Department of Chemistry, Kookmin University, Chongnung-dong, Songbuk-ku, Seoul 136-702, Korea.
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Este estudio introduce una nueva técnica de modelado que combina la litografía fotocatalítica de monocapas autoensambladas con la deposición de capas atómicas. Este método permite la deposición precisa de película delgada en sustratos de silicio para aplicaciones de materiales avanzados.
Área de la Ciencia:
Sus antecedentes:
Objetivo del estudio:
Principales métodos:
Principales resultados:
Conclusiones: