Fabricación a temperatura ambiente de transistores de película delgada transparentes y flexibles utilizando

Kenji Nomura1, Hiromichi Ohta, Akihiro Takagi

  • 1ERATO-SORST, JST, in Frontier Collaborative Research Center, Mail Box S2-13, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, 226-8503, Japan.

Nature
|November 27, 2004
PubMed
Resumen

Los investigadores desarrollaron nuevos transistores de película delgada de semiconductores de óxido amorfo transparente (a-IGZO). Estos dispositivos flexibles ofrecen un alto rendimiento a temperatura ambiente, superando las limitaciones de la electrónica flexible actual.

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