El sellado de poros conformes de nanómetro de espesor de sílice mesoporosa autoensamblada por deposición de capa...

Área de la Ciencia:

• Ciencia de los materiales Ciencia de los materiales.
• Química de las superficies.
• Nanotecnología La nanotecnología es la nanotecnología.

Sus antecedentes:

• La deposición tradicional de la capa atómica (ALD) se infiltra en los sustratos porosos, lo que limita el control de la superficie.
• El control de la penetración de ALD es crucial para aplicaciones como el sellado de películas dieléctricas de bajo k.

Objetivo del estudio:

• Desarrollar un proceso ALD controlado espacialmente.
• Para limitar ALD a la superficie inmediata de los materiales porosos.
• Para permitir una reducción precisa del tamaño de los poros para la formación de membranas.

Principales métodos:

• Se utilizó la deposición de capas atómicas asistida por plasma (ALD).
• Empleados precursores de ALD reactivos sólo cuando desencadenados por plasma.
• ALD definido espacialmente mediante el control de las zonas de irradiación de plasma.

Principales resultados:

• Alcanzado ALD confinado a la superficie del sustrato, evitando la infiltración de poros.
• Se ha demostrado la deposición de capas conformes a escala nanométrica para el sellado de películas porosas.
• Mostró una reducción progresiva del tamaño de los poros en los materiales mesoporosos.

Conclusiones:

• El ALD desencadenado por plasma ofrece un control espacial preciso sobre la deposición.
• Este método proporciona una solución para el sellado de películas dieléctricas porosas de bajo k.
• Permite la reducción ajustable del tamaño de los poros para crear membranas avanzadas.