Prochirality
Chirality
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Updated: Jul 19, 2026

Atomically Defined Templates for Epitaxial Growth of Complex Oxide Thin Films
Published on: December 4, 2014
Roland Widmer1, Franz-Josef Haug, Pascal Ruffieux
1Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Testing and Research, nanotech@surfaces Laboratory, Feuerwerkerstrasse 39, CH-3602 Thun, Switzerland. roland.widmer@empa.ch
El ácido tartárico quiral (TA) permite la deposición electroquímica de películas delgadas de óxido de cobre (CuO) homoquiral. La difracción de fotoelectrones de rayos X (XPD) confirmó la quiralidad de la superficie y el control de la orientación, lo que demuestra el crecimiento de la película enantioselectiva.
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