Selectividad de enlace en el crecimiento de la película de silicio

Science (New York, N.Y.)
|May 29, 1992
PubMed
Resumen

La exposición al hidrógeno durante el crecimiento de la película de silicio amorfo permite el control de la estructura de la película, lo que permite una transición de estados amorfos a cristalinos y un crecimiento selectivo del sustrato. Este método utiliza hidrógeno.