Updated: Jul 3, 2026

Expanding Nanopatterned Substrates Using Stitch Technique for Nanotopographical Modulation of Cell Behavior
Published on: December 8, 2016
Anthony Grbic1, Lei Jiang, Roberto Merlin
1Radiation Laboratory, Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, Ann Arbor, MI 48109-2122, USA. agrbic@umich.edu
Los investigadores utilizaron una placa con patrón para controlar los campos cercanos electromagnéticos, logrando enfocar más allá del límite de difracción a 1 gigahertz. Esta tecnología permite el enfoque de longitudes de onda inferiores para aplicaciones en antenas y microscopía.
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