Grafoepitaxia de copolímeros de bloque autoensamblados en plantillas de patrones periódicos bidimensionales

Ion Bita1, Joel K W Yang, Yeon Sik Jung

  • 1Department of Materials Science and Engineering, Massachusetts Institute of Technology, 77 Massachusetts Avenue, Cambridge, MA 02139, USA.

Science (New York, N.Y.)
|August 16, 2008
PubMed
Resumen

El autoensamblaje en plantilla de copolímeros de bloque utilizando elementos topográficos a nanoescala crea matrices ordenadas. Esta técnica permite nanoestructuras libres de defectos y de alta densidad para aplicaciones avanzadas de nanolitografía.