Resistencias monocapa para la impresión de contacto con patrones de matrices de nanocables alineados

Toshitake Takahashi1, Kuniharu Takei, Johnny C Ho

  • 1Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California at Berkeley, Berkeley, California 94720, USA.

Resumen

Este estudio demuestra un método novedoso de un solo paso para la impresión de nanocables con patrones utilizando monocapas fluoradas activadas por la luz como resistencia. Esta técnica permite la colocación precisa de nanocables sin procedimientos complejos de despegue.

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