Fotomodelado a escala micrométrica y nanométrica utilizando monocapas de aminosiloxano protegidas con

Shahrul A Alang Ahmad1, Lu Shin Wong, Ehtsham ul-Haq

  • 1Department of Chemistry, University of Sheffield, Brook Hill, Sheffield S3 7HF, UK.

Resumen

Los investigadores desarrollaron una nueva técnica de nanopatronización utilizando microscopía óptica de campo cercano y luz UV para eliminar selectivamente los grupos protectores de las superficies. Este método permite una modificación precisa de la superficie para aplicaciones de materiales avanzados.

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