Metalización del semiconductor molecular de un solo componente [Ni(ptdt) 2] bajo muy alta presión

Hengbo Cui1, James S Brooks, Akiko Kobayashi

  • 1Department of Physics and National High Magnetic Field Laboratory, Florida State University, Tallahassee Florida 32310, USA.

Resumen

Las mediciones de la resistividad eléctrica revelan que el semiconductor molecular [Ni(ptdt) ((2) ] permanece semiconductor hasta 17,9 GPa. La metalización inducida por presión comienza a 18,9 GPa, con un comportamiento metálico completo observado a 19,9 GPa.

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