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Atomic Fluorescence Spectroscopy01:29

Atomic Fluorescence Spectroscopy

Atomic fluorescence spectroscopy (AFS) is an analytical technique that involves the electronic transitions of atoms in a flame, furnace, or plasma being excited by electromagnetic (EM) radiation. When these atoms absorb energy, they become excited and subsequently release energy as they return to their original state. This emitted light, or "fluorescence," is observed at a right angle to the incident beam. Both absorption and emission processes transpire at distinct wavelengths, which are...

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Amplificadores de ácido fluorado para la litografía EUV.

Seth Kruger1, Sri Revuru, Craig Higgins

  • 1College of Nanoscale Science and Engineering, University at Albany, Albany, New York 12203, USA.

Journal of the American Chemical Society
|July 3, 2009
PubMed
Resumen
Este resumen es generado por máquina.

Se desarrollaron nuevos amplificadores ácidos para fotorresistentes ultravioleta extrema (UVE). Estos compuestos generan ácidos que mejoran la resolución, la sensibilidad y reducen la rugosidad del borde de la línea (LER) en la litografía EUV.

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Área de la Ciencia:

  • Ciencia de los materiales Ciencia de los materiales.
  • Química orgánica es la química orgánica.
  • Nanotecnología La nanotecnología es la nanotecnología.

Sus antecedentes:

  • La litografía ultravioleta extrema (EUV) es crucial para la fabricación avanzada de semiconductores.
  • Los fotorresistentes requieren un alto rendimiento en resolución, sensibilidad y rugosidad del borde de la línea (LER).
  • Los amplificadores de ácido juegan un papel clave en la química fotorresistente de la EUV.

Objetivo del estudio:

  • Para sintetizar nuevos amplificadores de ácido para EUV fotorresistentes.
  • Para investigar la cinética de descomposición y los mecanismos de estos amplificadores.
  • Para evaluar su desempeño en la mejora de parámetros litográficos críticos.

Principales métodos:

  • Síntesis de cinco nuevos compuestos orgánicos.
  • Estudios cinéticos de la descomposición de compuestos utilizando resonancia magnética nuclear con fluor-19 (19F NMR).
  • Evaluación del rendimiento litográfico en fotorresistentes EUV.

Principales resultados:

  • Cuatro compuestos sintetizados funcionan como amplificadores de ácido eficaces.
  • La descomposición autocatalítica genera ácidos sulfónicos fluorados.
  • Las tasas de descomposición fueron significativamente más rápidas en ausencia de una base (hasta 1430x).
  • Un compuesto, cis-1-metil-2-(4-(trifluorometil) fenilsulfoniloxi) acetato de ciclohexilo, demostró mejoras simultáneas en la resolución, LER y sensibilidad.

Conclusiones:

  • Los amplificadores de ácido desarrollados son prometedores para el avance de la litografía EUV.
  • La generación controlada de ácido es clave para mejorar el rendimiento de la fotorresistencia.
  • Una mayor optimización podría conducir a la próxima generación de resistencias EUV.