Fotolitografía respetuosa con el medio ambiente utilizando fotorresistentes termorresistentes basados en poli

Leonid Ionov1, Stefan Diez

  • 1Max-Planck-Institute of Molecular Cell Biology and Genetics, Pfotenhauer Str. 108, 01307 Dresden, Germany. ionov@ipfdd.de

Resumen

Los investigadores desarrollaron un nuevo fotorresistente desencadenado por la temperatura utilizando copolímeros de poli (N-isopropilacrilamida) fotocleables. Este material innovador permite el desarrollo de patrones en soluciones acuosas al alterar su solubilidad con luz UV y temperatura, ideal para el biopatinaje.

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