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Updated: Jun 16, 2026

11:42
Fabrication of Gate-tunable Graphene Devices for Scanning Tunneling Microscopy Studies with Coulomb Impurities
Published on: July 24, 2015
Los transistores de 100 GHz de grafeno epitaxial a escala de obleas están hechos de grafeno epitaxial a escala de
Y-M Lin1, C Dimitrakopoulos, K A Jenkins
1IBM T. J. Watson Research Center, Yorktown Heights, NY 10598, USA. yming@us.ibm.com
Resumen
Los transistores de efecto de campo de grafeno epitaxial logran frecuencias de corte de 100 gigahertz. Estos transistores de grafeno de alta frecuencia superan el rendimiento de los transistores de silicio con longitudes de puerta similares.
Área de la Ciencia:
- Ciencia de los materiales Ciencia de los materiales.
- Ingeniería Eléctrica Ingeniería Eléctrica.
- Física de la materia condensada Física de la materia condensada
Sus antecedentes:
- La excepcional movilidad del portador del grafeno es clave para la electrónica de alta frecuencia.
- Los transistores de efecto de campo (FET) son componentes cruciales en aplicaciones de alta frecuencia.
Objetivo del estudio:
- Para investigar el rendimiento de alta frecuencia de los transistores fabricados con grafeno epitaxial.
- Para comparar el rendimiento de estos transistores de grafeno con los transistores de silicio de última generación.
Principales métodos:
- Fabricación de FET sobre grafeno epitaxial crecido en la cara de silicio de las obleas de carburo de silicio (SiC).
- Caracterización del rendimiento del transistor, centrándose en la frecuencia de corte y la longitud de la puerta.
Principales resultados:
- Se logró una frecuencia de corte de 100 gigahertz para transistores con una longitud de puerta de 240 nanómetros.
- Demostró un rendimiento superior de alta frecuencia en comparación con los transistores de silicio de la misma longitud de puerta.
Conclusiones:
- El grafeno epitaxial es un material prometedor para la próxima generación de transistores de alta frecuencia.
- Los FET de grafeno ofrecen un avance significativo sobre la tecnología basada en silicio para dispositivos electrónicos de alta velocidad.
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