Deposición en solución química de las películas de carburo epitaxial

Guifu Zou1, Haiyan Wang, Nathan Mara

  • 1Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, New Mexico 87545, USA. gfzou@lanl.gov

Resumen

Un nuevo método de solución química rentable permite el crecimiento de películas de carburo epitaxial, que incluyen carburo de titanio (TiC), carburo de vanadio (VC) y carburo de tántalo (TaC). Estas películas poseen propiedades comparables a las producidas por las técnicas tradicionales de deposición de vapor.

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