Las nanoplacas de Ni(OH) 2 cultivadas en el grafeno como materiales electroquímicos avanzados para pseudocapacitores

Hailiang Wang1, Hernan Sanchez Casalongue, Yongye Liang

  • 1Department of Chemistry and Laboratory for Advanced Materials, Stanford University, Stanford, California 94305, USA.

Resumen

El hidróxido de níquel (Ni(OH) 2 cultivado en láminas de grafeno ofrece un rendimiento superior para los pseudocapacitores electroquímicos. El crecimiento directo en grafeno conductor mejora el almacenamiento de energía, superando a otros métodos.

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