Escalar la heteroepitaxia desde capas hasta cristales tridimensionales

Claudiu V Falub1, Hans von Känel, Fabio Isa

  • 1Laboratory for Solid State Physics, ETH Zürich, Zürich, Switzerland. cfalub@phys.ethz.ch

Science (New York, N.Y.)
|March 17, 2012
PubMed
Resumen

Los investigadores desarrollaron un método novedoso para el cultivo de cristales de germanio (Ge) y silicio-germanio (SiGe) libres de deformación y defectos en pilares de silicio. Esta técnica supera los inconvenientes comunes en el crecimiento epitaxial, permitiendo nuevas posibilidades para los dispositivos semiconductores.