La deposición de la capa atómica coloidal (c-ALD) utilizando reacciones autolimitantes en la superficie del

Sandrine Ithurria1, Dmitri V Talapin

  • 1Department of Chemistry, University of Chicago, Illinois 60637, United States.

Resumen

La deposición de la capa atómica coloidal (c-ALD) permite la síntesis de nuevas nanoestructuras mediante la transferencia secuencial de precursores entre fases. Este método creó con éxito nanoplaquetas CdS/CdSe/CdS con propiedades electrónicas sintonizables y reducida ampliación espectral.