Electrodeposición directa de silicio cristalino a bajas temperaturas

Junsi Gu1, Eli Fahrenkrug, Stephen Maldonado

  • 1Department of Chemistry, University of Michigan, 930 North University Avenue, Ann Arbor, Michigan 48109-1055, United States.

Resumen

Un nuevo proceso electroquímico líquido-líquido-sólido (ec-LLS) permite la producción de silicio cristalino a baja temperatura (80 °C). Este método utiliza un electrodo de galio líquido para electrodepositar silicio cristalino de alta calidad sin plantillas.

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