Design Example: Resistive Touchscreen
The Electrical Double Layer
Electric Field of Parallel Conducting Plates
Metal-Semiconductor Junctions
Electrostatic Boundary Conditions in Dielectrics
Electrochemical Systems
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Updated: May 6, 2026

Ohmic Contact Fabrication Using a Focused-ion Beam Technique and Electrical Characterization for Layer Semiconductor Nanostructures
Published on: December 5, 2015
1Department of Electrical Engineering, Columbia University, New York, NY 10027, USA.
Los investigadores desarrollaron un nuevo método de contacto de borde para materiales bidimensionales (2D), mejorando el contacto eléctrico en heteroestructuras de grafeno para dispositivos electrónicos avanzados.
Área de la Ciencia:
Sus antecedentes:
Objetivo del estudio:
Principales métodos:
Principales resultados:
Conclusiones: