Síntesis y caracterización de las superficies atómicamente planas terminadas en metilo Ge(111)

Keith T Wong1, Youn-Geun Kim1, Manuel P Soriaga1

  • 1†Division of Chemistry and Chemical Engineering, ‡Joint Center for Artificial Photosynthesis, §Beckman Institute, and ∥Kavli Nanoscience Institute, California Institute of Technology, Pasadena, California 91125, United States.

Resumen

Los investigadores crearon una superficie de germanio terminado en metilo (CH3-Ge(111) que es atómicamente plana y resistente a la oxidación. Esta superficie ordenada, estable hasta 400 °C, muestra potencial para aplicaciones electrónicas avanzadas.