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Updated: Apr 1, 2026

Fabrication of Low Temperature Carbon Nanotube Vertical Interconnects Compatible with Semiconductor Technology
Published on: December 7, 2015
Contactos enlazados por extremo para transistores de nanotubos de carbono con baja resistencia, independientemente de
Qing Cao1, Shu-Jen Han2, Jerry Tersoff2
1IBM Thomas J. Watson Research Center, Yorktown Heights, NY 10598, USA. qcao@us.ibm.com.
Los investigadores desarrollaron una nueva tecnología de transistores de nanotubos de carbono de una sola pared. Este esquema de contacto enlazado supera la resistencia dependiente del tamaño, permitiendo transistores más pequeños y de alto rendimiento para la electrónica futura.
Área de la Ciencia:
- Ciencias de los materiales
- Nanotecnología
- Ingeniería eléctrica
Sus antecedentes:
- Los transistores de silicio se enfrentan a límites de escala debido al aumento de la resistencia al contacto con el tamaño decreciente.
- Los nanotubos de carbono ofrecen canales de alto rendimiento por debajo de 10 nm, pero sufren problemas de resistencia al contacto similares.
- Los esquemas convencionales de contacto lateral o plano dificultan el rendimiento de los transistores a nanoescala.
Objetivo del estudio:
- Desarrollar una nueva tecnología de transistores de nanotubos de carbono de pared única (SWNT).
- Para superar las limitaciones de resistencia al contacto dependientes del tamaño en los transistores de nanoescala.
- Permitir la fabricación de transistores SWNT de alto rendimiento para futuras tecnologías de dispositivos a escala.
Principales métodos:
- Fabricación de transistores SWNT que utilizan un esquema de contacto enlazado por extremo.
- Formación de contactos de tipo p enlazados por la reacción del molibdeno con SWNT para crear carburo.
- Caracterización de la resistencia y la corriente en funcionamiento del dispositivo para longitudes de contacto inferiores a 10 nanómetros.
Principales resultados:
- Se logró una resistencia al contacto independiente del tamaño, superando un obstáculo importante en el rendimiento.
- Transistores SWNT de alto rendimiento fabricados con una resistencia del dispositivo inferior a 36 kilohm.
- Se demostró una corriente de más de 15 microamperios por tubo sin barrera de Schottky observada.
Conclusiones:
- El esquema de contacto enlazado por extremo elimina efectivamente la resistencia de contacto dependiente del tamaño en los transistores SWNT.
- Esta tecnología permite la creación de transistores SWNT altamente eficientes y a escala.
- La estrategia desarrollada allana el camino para la próxima generación de dispositivos electrónicos más allá de las limitaciones actuales del silicio.
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