Isolador topológico fotónico inducido por una dislocación en tres dimensiones

Eran Lustig1, Lukas J Maczewsky2, Julius Beck2

  • 1Physics Department and Solid State Institute, Technion - Israel Institute of Technology, Haifa, Israel.

Nature
|September 28, 2022
PubMed
Resumen

Los investigadores demuestran aislantes topológicos tridimensionales (TI) en fotónica utilizando dimensiones sintéticas. Este avance permite una propagación de luz robusta y sin dispersión en estados de superficie protegidos, superando las limitaciones anteriores en frecuencias ópticas.