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Updated: Jul 13, 2026

14:18
Automation of Mode Locking in a Nonlinear Polarization Rotation Fiber Laser through Output Polarization Measurements
Published on: February 28, 2016
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Laser con bloqueo de modo ultrarrápido en niobato de litio nanofotónico
Qiushi Guo1,2,3, Benjamin K Gutierrez4, Ryoto Sekine1
1Department of Electrical Engineering, California Institute of Technology, Pasadena, CA, USA.
Resumen
Este estudio presenta un nuevo láser con bloqueo de modo de bombeo eléctrico (MLL) integrado en una plataforma de niobato de litio nanofotónica. Este avance permite impulsos ultracortos controlables de alta potencia para circuitos nanofotónicos avanzados.
Área de la Ciencia:
- Fotónica y ingeniería óptica
- Ciencias de los materiales
- Física de los semiconductores
Sus antecedentes:
- Los láseres con bloqueo de modo (MLL) son cruciales para la generación de pulsos ópticos ultracortos.
- Los MLL integrados para circuitos nanofotónicos se enfrentan a desafíos como baja potencia pico y mala controlabilidad.
- Los MLL existentes luchan con la integración en las plataformas nanofotónicas.
Objetivo del estudio:
- Para demostrar un láser con bloqueo de modo activo (MLL) bombeado eléctricamente en niobato de litio nanofotónico.
- Para superar las limitaciones de los MLL actuales para conducir circuitos nanofotónicos ultrarrápidos.
- Para lograr una generación de pulsos ultrarrápidos de alta potencia controlada en el chip.
Principales métodos:
- Integración híbrida de un amplificador óptico de semiconductores III-V con niobato de litio nanofotónico.
- El bombeo eléctrico del láser de modo bloqueado.
- Caracterización de las propiedades del pulso, tasa de repetición y frecuencia de desplazamiento de la envolvente portadora.
Principales resultados:
- Demostración de un MLL activamente bombeado eléctricamente en niobato de litio nanofotónico.
- Generación de pulsos ópticos de ~4,8 s a 1065 nm con una frecuencia de repetición de ~10 GHz.
- Energías de pulso alcanzadas >2,6 pJ y potencias máximas >0,5 W.
- Se ha demostrado un amplio control de la velocidad de repetición y la frecuencia de desplazamiento de la envolvente portadora.
Conclusiones:
- El MLL desarrollado supera las limitaciones anteriores en fotónica integrada.
- Proporciona una vía para peines de frecuencia totalmente estabilizados en el chip.
- Permite nuevas posibilidades para circuitos y aplicaciones nanofotónicas ultrarrápidas.

