Desarrollo de productos ferroeléctricos resistentes a la fatiga mediante conmutación deslizante entre capas

Renji Bian1,2, Ri He3, Er Pan1

  • 1School of Optoelectronic Science and Engineering, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 611731, China.

Science (New York, N.Y.)
|June 6, 2024
PubMed
Resumen

Los investigadores desarrollaron una memoria ferroeléctrica libre de fatiga utilizando disulfuro de molibdeno de doble capa 3R (3R-MoS 2). Este avance supera las limitaciones materiales, allanando el camino para dispositivos de memoria no volátiles altamente duraderos.