Optimización del diseño de la capa de disolución mutua y de la capa de interfaz de difusión en fototransistores

Tao Han1,2, Yimin Zhang1, Tianxia Li1

  • 1Microelectronics and Optoelectronics Technology Key Laboratory of Hunan Higher Education, School of Physics and Electronic Electrical Engineering, Xiangnan University Chenzhou 423000 P. R. China than@xnu.edu.cn.

RSC advances
|September 5, 2025
PubMed
Resumen

Los investigadores mejoraron los fototransistores orgánicos cercanos al infrarrojo mediante el control de la disposición de donante-aceptor. Esto mejoró el rendimiento del dispositivo y la fotosensibilidad, superando los problemas de distribución aleatoria del material durante la fabricación.