Resolución de las dinámicas de exposición in situ en un fotorresistente EUV amplificado químicamente utilizando...

Área de la Ciencia:

• Ciencias de los materiales
• La fotoquímica
• Espectroscopia

Sus antecedentes:

• La litografía ultravioleta extrema (EUV) es crucial para la fabricación a nanoescala.
• Comprender la química impulsada por la ionización en los fotorresistentes es un desafío.
• Las transformaciones radioquímicas durante la exposición al VUE requieren investigación.

Objetivo del estudio:

• Investigar in situ los cambios químicos de las fotorresistencias durante la exposición al UVU.
• Identificar nuevas vías de reacción química inducidas por la luz EUV.
• Explorar la utilidad de la espectroscopia de fotoemisión del EUV para el estudio de la dinámica de la resistencia.

Principales métodos:

• Desarrollo de la espectroscopia de fotoemisión de mesa de los EUV.
• Observación in situ de los cambios químicos en un modelo de fotorresistencia.
• Simulación atómica avanzada para el análisis teórico.

Principales resultados:

• Descubrimiento de la descomposición inducida por la EUV de los generadores de fotoácidos de la sustancia perfluoroalquílica (PFAS).
• Observación de los cambios en la intensidad máxima de la banda de valencia relacionados con la degradación de PFAS PAG.
• Resolución simultánea de la dinámica química y la producción de electrones mediante la fotoemisión EUV.

Conclusiones:

• La espectroscopia de fotoemisión del EUV ofrece una visión única de la radiocímica fotorresistente.
• El enfoque desarrollado puede rastrear las vías de degradación de PFAS en películas delgadas.
• Los sistemas de espectroscopia de EUV accesibles pueden monitorear la dinámica química de las fotorresistencias de EUV.