Guías de onda con carga de tira en niobato de litio de película delgada realizadas mediante litografía multifotónica

Área de la Ciencia:

• Fotónica integrada
• Ciencia de materiales
• Nanofabricación

Sus antecedentes:

• La fotónica integrada es crucial para los futuros sistemas fotónicos.
• El niobato de litio (LN) ofrece excelentes propiedades no lineales y electro-ópticas.
• La fabricación convencional de guías de onda de LN es compleja y requiere mucho tiempo.

Objetivo del estudio:

• Demostrar un método de fabricación sin grabado para guías de onda de LN de película delgada.
• Reducir el tiempo de producción y el desperdicio de material en la fabricación de guías de onda de LN.
• Permitir el desarrollo sostenible de circuitos integrados fotónicos (PIC) de niobato de litio.

Principales métodos:

• Se utilizó litografía multifotónica para la fabricación de guías de onda.
• Se desarrolló un diseño de guía de onda con carga de tira.
• Se demostró la borradura y reimpresión de tiras de polímero en sustratos de LN.

Principales resultados:

• Se lograron pérdidas de propagación tan bajas como 0.15 dB/cm a 1550 nm.
• Se redujo significativamente el tiempo de producción en comparación con los métodos tradicionales.
• Se demostró con éxito la reutilización del sustrato mediante la reprogramación de tiras de polímero.

Conclusiones:

• El enfoque de litografía multifotónica sin grabado proporciona una alternativa viable para la fabricación de guías de onda de LN.
• Este método mejora la sostenibilidad al permitir la reutilización del sustrato y reducir los residuos.
• La técnica es transferible a otras plataformas de película delgada, ampliando el acceso al desarrollo de PIC.