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Updated: Jan 31, 2026

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Published on: December 16, 2011
Megha Sasidharan Nisha1, Kiran Mangalampalli2
1Department of Physics and Nanotechnology, SRM Institute of Science and Technology, Kattankulathur-603203, Tamil Nadu, India. ms8267@srmist.edu.in.
Se logra una ingeniería de fases de silicio controlada debajo de una capa de óxido optimizando la nanoindentación. La indentación esférica, dentro de una ventana de carga crítica, permite la recuperación cristalina ordenada para dispositivos de silicio avanzados.
Área de la Ciencia:
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Principales resultados:
Conclusiones: