Preparation of Samples for Electron Microscopy
Scanning Electron Microscopy
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Updated: Feb 17, 2026

Ohmic Contact Fabrication Using a Focused-ion Beam Technique and Electrical Characterization for Layer Semiconductor Nanostructures
Published on: December 5, 2015
Akyl Swaby1, Kaitlin Hellier1, Linxi Shi2
1Department of Electrical and Computer Engineering, University of California Santa Cruz, Santa Cruz, CA 95064, USA.
Se fabricaron capas gruesas de selenio amorfo (a-Se) para detectores de panel plano de rayos X de doble capa (DL-FPD). Las capas de a-Se más gruesas mejoran la absorción de rayos X y la fotocorriente, pero pueden aumentar la persistencia de la señal.
12:21Close-Space Sublimation-Deposited Ultra-Thin CdSeTe/CdTe Solar Cells for Enhanced Short-Circuit Current Density and Photoluminescence
Published on: March 6, 2020
11:14Comprehensive Characterization of Extended Defects in Semiconductor Materials by a Scanning Electron Microscope
Published on: May 28, 2016
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