Medición del nano desplazamiento utilizando un interferómetro configurado por Littman basado en haces de momento...

Área de la Ciencia:

• Óptica y Fotónica.
• Nanotecnología La nanotecnología es la nanotecnología.
• Metrología de la metrología.

Sus antecedentes:

• La medición precisa de los nano-desplazamientos es crucial para la fabricación avanzada y la investigación científica.
• Los interferómetros tradicionales se enfrentan a limitaciones en cuanto a robustez ambiental y resolución.

Objetivo del estudio:

• Desarrollar un interferómetro configurado por Littman que utilice haces de momento angular orbital (OAM) para la medición de nano desplazamiento de alta resolución.
• Investigar la capacidad del sistema para la detección de desplazamiento tanto dentro como fuera del avión.

Principales métodos:

• Generación de interferogramas parecidos a pétalos a través de la interferencia de haces OAM conjugados.
• Difracción de un haz de referencia OAM de una rejilla de escala para crear un haz medido.
• Demodulación del ángulo de rotación del interferograma utilizando la correlación cruzada circular para el cálculo del desplazamiento.

Principales resultados:

• El análisis teórico muestra que 1° de rotación del interferograma corresponde a 2.313 nm de desplazamiento en el plano y 1.067 nm fuera del plano.
• Los resultados experimentales demuestran errores máximos de 1.299 nm (en el plano) y 1.898 nm (fuera del plano).
• Se lograron resoluciones de desplazamiento superiores a 2 nm para ambos tipos de medición.

Conclusiones:

• El interferómetro OAM en una configuración Littman transfiere efectivamente el estándar de medición al paso de la rejilla para mediciones en el plano.
• El desplazamiento fuera del plano está influenciado tanto por el paso de la rejilla como por la longitud de onda.
• El método propuesto ofrece una mayor robustez ambiental y una alta resolución de desplazamiento.