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Magnetorresistencia mejorada de túneles intergranos en películas semimetálicas de CrO2

Hwang1, Cheong

  • 1H. Y. Hwang, Bell Laboratories, Lucent Technologies, Murray Hill, NJ 07974, USA. S.-W. Cheong, Bell Laboratories, Lucent Technologies, Murray Hill, NJ 07974, and Department of Physics and Astronomy, Rutgers University, Piscataway, NJ 08855, USA.

Science (New York, N.Y.)
|December 5, 1997
PubMed
Resumen

Los investigadores observaron una mayor magnetorresistencia de túnel de campo bajo en las películas de dióxido de cromo (CrO2). Los tratamientos de recocido mejoraron las barreras intergranulares, aumentando significativamente la magnetorresistencia para aplicaciones potenciales.

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