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Dinámica de enlaces colgantes en la superficie de silicio (100)-2x1: disociación, difusión y recombinación

McEllistrem1, Allgeier, Boland

  • 1Venable and Kenan Laboratories, Department of Chemistry, University of North Carolina, Chapel Hill, NC 27599-3290, USA.

Science (New York, N.Y.)
|January 28, 1998
PubMed
Resumen

Se estudió la difusión de enlaces colgantes en superficies de silicio. A temperaturas más altas, estos enlaces se mueven a lo largo de filas y se recombinan, lo que afecta el crecimiento de materiales a baja temperatura.

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