大型3次元フォトニック・バンド・ギャップ・クリスタルのための提案された正方形のスパイラル・マイクロファブリケーション・アーキテクチャ
1Department of Physics, University of Toronto, 60 St. George Street, Toronto M5S-1A7, Canada. ovi@physics.utoronto.ca
Science (New York, N.Y.)
|May 12, 2001
まとめ
私たちは,光学アプリケーションのためのスパイラルポストを使用して3Dフォトニックバンドギャップ素材を設計しました. この頑丈な光子結晶は,大規模な製造に適しており,最大24%の大きな帯域ギャップを提供します.
科学分野:
- マテリアルサイエンス 材料科学
- オプティクスは光学です.
- ナノテクノロジー ナノテクノロジー
背景:
- フォトニック・バンド・ギャップ (PBG) 材料は,光の伝播を制御するために極めて重要です.
- 3D PBG素材の大規模製造は依然として課題です.
研究 の 目的:
- 3Dフォトニック・バンド・ギャップ・マテリアルの設計図を提示する.
- 光学的なスケールでPBG材料の大規模マイクロファブリケーションを可能にします.
主な方法:
- 凝視角度沈殿法を使用しています.
- 四角格子状の格子上の正方形の螺旋柱を持つキラル結晶を設計する.
主要な成果:
- 空気中のシリコンポストでは15%の完全な光子帯域ギャップ (PBG) を達成しました.
- シリコンの背景の空軍基地で最大PBGの24%を取得しました.
- PBGは4番目と5番目帯の間に位置し,幾何学的な変化に強い.
結論:
- 提案された設計は,大規模マイクロファブリケーションに適しています.
- その結果生成された3Dフォトニック・バンド・ギャップ・マテリアルは,有意で堅固なPBGを現しています.
