,調,

S M Kuznicki1, V A Bell, S Nair

  • 1Strategic Technology Group, Engelhard Corporation, 101 Wood Avenue, Iselin, New Jersey 08830, USA. steve.kuznicki@engelhard.com

Nature
|August 17, 2001
PubMed
まとめ

チタンシリケートETS-4のフレームワークは脱水によって収縮され,分子ゲートが生成されます. この調節可能な孔の大きさは,N2/CH4.4のような小さなガス分子を分離するための選択的吸収を可能にします.