デバイス製造のための超臨界のCO2ベースの"乾燥"化学機械平面化プロセスでCu(0) を除去するためのエッチング溶液
Carol A Bessel1, Ginger M Denison, Joseph M DeSimone
1Department of Chemistry, University of North Carolina at Chapel Hill, Chapel Hill, North Carolina 27599, USA.
Journal of the American Chemical Society
|April 24, 2003
まとめ
研究者らは,マイクロエレクトロニクス製造のエコフレンドリーな代替品として,濃縮された二酸化炭素 (CO2) を調査した. この研究では,CO2における銅の酸化とケラ化を調査し,より緑の化学機械平面化 (CMP) プロセスへの道を切り開きました.
科学分野:
- マテリアルサイエンス 材料科学
- 化学工学は化学工学というものです.
- マイクロエレクトロニクス 製造業
背景:
- マイクロエレクトロニクス業界は,0.25ミクロメートル未満の相互接続を持つますます複雑なチップを製造するための高度な技術を要求しています.
- 現在の水性化学機械平面化 (CMP) 方法は,技術的にも環境的にも大きな課題を抱えています.
- 濃縮された二酸化炭素 (CO2) は,伝統的なCMP溶媒の限界に対処し,潜在的な"乾燥"なエッチング媒介としてのユニークな性質を提供します.
研究 の 目的:
- マイクロエレクトロニクスにおける化学機械平面化 (CMP) の溶媒として濃縮CO2を使用する可能性を調査する.
- 液体および超臨界CO2環境における固体金属銅の化学反応,特に酸化およびケラ化を調査する.
- CO2ベースのCMPシステムで銅の加工を容易にするのに適した化学薬品を特定する.
主な方法:
- 液体および超臨界CO2における固体金属銅の酸化を調査した.
- 凝縮されたCO2でベータディケトンケラティング剤を用いて銅イオンのケラ化を研究した.
- エチルペロキシジカルボネートを酸化剤としてケラート剤と併用して利用した.
主要な成果:
- 液体および超臨界CO2における固体銅の酸化が成功裏に実証されました.
- 凝縮されたCO2媒介で銅種のケラ化が達成された.
- CO2で銅を加工するためのエチルペロキシジカルボネートとベータディケトンの可能性を検証した.
結論:
- 濃縮されたCO2は,CMPプロセスに関連する銅の酸化およびケラ化のための有効な媒介です.
- エチルペロキシジカルボネートとベータディケトンの使用により,CO2における銅表面の効果的な改変が可能になります.
- この研究は,高度なマイクロエレクトロニクス製造のための環境に優しい"乾燥"CMPの代替品の開発を支援します.
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