Jove
Visualize
お問い合わせ

関連する実験動画

シリコンのスライスを加工する新しい方法

T C Penn

    Science (New York, N.Y.)
    |May 23, 1980
    PubMed
    まとめ
    この要約は機械生成です。

    室温の無線周波数プラズマイオン化により,シリコン集積回路材料の微小尺度のパターニングが可能になります. このテクニックは,素材リトグラフィの伝統的な製造方法に比べて,著しく改善されています.

    関連する実験動画

    関連する概念動画

    こちらも読む

    関連記事

    共著者、ジャーナル、引用グラフによってこの研究に関連する記事。

    並び替え
    Same journal

    Erratum for the Research Article "Detecting supramolecular organic nanoparticles during heat wave".

    Science (New York, N.Y.)·2026
    Same journal

    Local signals, systemic decline.

    Science (New York, N.Y.)·2026
    Same journal

    The mechanics of liver regeneration.

    Science (New York, N.Y.)·2026
    Same journal

    Computing in a memory with physics.

    Science (New York, N.Y.)·2026
    Same journal

    Retraction.

    Science (New York, N.Y.)·2026
    Same journal

    Making time.

    Science (New York, N.Y.)·2026
    関連記事をすべて見る
    JoVE
    x logofacebook logolinkedin logoyoutube logo
    JoVEについて
    概要リーダーシップブログJoVEヘルプセンター
    著者向け
    出版プロセス編集委員会範囲と方針査読よくある質問投稿
    図書館員向け
    推薦の声購読アクセスリソース図書館諮問委員会よくある質問
    研究
    JoVE JournalMethods CollectionsJoVE Encyclopedia of Experimentsアーカイブ
    教育
    JoVE CoreJoVE BusinessJoVE Science EducationJoVE Lab Manual教員リソースセンター教員サイト
    利用規約
    プライバシーポリシー
    ポリシー

    科学分野:

    • マテリアルサイエンス 材料科学
    • プラズマ物理学 プラズマ物理学
    • 半導体製造 半導体製造業

    背景:

    • 集積回路の製造は,精密な材料パターニングに依存しています.
    • 伝統的なリトグラフィー技術は,サブマイクロメートルの寸法を達成する際の制限に直面しています.
    • プラズマ処理は,材料操作のための高度な能力を提供します.

    研究 の 目的:

    • 素材リトグラフィーのためのプラズマ処理に関するチュートリアルを提示します.
    • 断熱,導電,半導体材料のパターニングの改善を強調する.
    • 過去の製造技術とプラズマベースのリトグラフィーの進歩をレビューする.

    主な方法:

    • 室温,無線周波数のプラズマによるガスのイオン化.
    • プラズマ処理を適用して,様々なタイプの材料にパターンを付けます.
    • プラズマ技術と歴史的な製造方法を比較する.

    主要な成果:

    • シリコン集積回路材料のサブマイクロメートルのパターニング寸法を達成しました.
    • 材料リトグラフィにおけるプラズマイオン化の有効性を実証した.
    • プラズマ加工が製造を強化する重要な分野を特定しました.

    結論:

    • 室温プラズマ処理は,高度なリトグラフィーの強力な技術です.
    • プラズマイオン化は,半導体材料のパターニングに優れた制御と精度を提供します.
    • この方法は,集積回路製造における重要な進歩を表しています.