Jove
Visualize
お問い合わせ
JoVE
x logofacebook logolinkedin logoyoutube logo
JoVEについて
概要リーダーシップブログJoVEヘルプセンター
著者向け
出版プロセス編集委員会範囲と方針査読よくある質問投稿
図書館員向け
推薦の声購読アクセスリソース図書館諮問委員会よくある質問
研究
JoVE JournalMethods CollectionsJoVE Encyclopedia of Experimentsアーカイブ
教育
JoVE CoreJoVE BusinessJoVE Science EducationJoVE Lab Manual教員リソースセンター教員サイト
利用規約
プライバシーポリシー
ポリシー

関連する実験動画

半導体電子学の物理的な限界

R W Keyes

    Science (New York, N.Y.)
    |March 18, 1977
    PubMed
    まとめ
    この要約は機械生成です。

    リトグラフィー技術は,予測可能な根本的な限界のない,より小さな次元に向かって前進し続けています. ミニチュライゼーションは,最終的に材料の特性と,熱散熱と接続性のためのパッケージング技術によって制限されます.

    関連する実験動画

    関連する概念動画

    こちらも読む

    関連記事

    共著者、ジャーナル、引用グラフによってこの研究に関連する記事。

    並び替え
    Same author

    Thermal limitations in optical logic.

    Applied optics·2010
    Same author

    What makes a good computer device?

    Science (New York, N.Y.)·1985
    Same author

    Microstructure fabrication.

    Science (New York, N.Y.)·1977
    Same author

    Power dissipation in information processing.

    Science (New York, N.Y.)·1970
    Same author

    A microphone in his office.

    Hospitals·1951

    科学分野:

    • マテリアルサイエンス 材料科学
    • 電気工学 電気工学とは
    • 製造技術 製造技術 製造技術

    背景:

    • 現在のリトグラフィーの方法は,認められた限界に直面していますが,技術革新は一貫して小型化を推進しています.
    • 歴史的傾向は,製造プロセスにおける機能のサイズを小さくする方向への継続的な進歩を示しています.

    研究 の 目的:

    • リトグラフィーの進行中の進歩とミニチュライゼーションへの影響を探求する.
    • 構成要素の尺寸のさらなる削減を最終的に制限する根本的な障壁を特定する.

    主な方法:

    • 石版画の歴史的傾向と技術的進歩の分析.
    • ミニチュライゼーションの物理的・技術的な制約を特定する.

    主要な成果:

    • リトグラフィックの限界は,技術的な独創性により,常により小さな次元に押し出されています.
    • リトグラフィの限界の衰退を止めるための根本的な理由は現在存在しない.

    結論:

    • ミニチュライゼーションの究極の限界は,高電場に対する材料の回復力によって決定されます.
    • 先進的な包装技術は,熱,電源,および相互接続を高度に小型化されたシステムで管理するために不可欠です.