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Ricardo Ruiz1, Huiman Kang, François A Detcheverry

  • 1Hitachi Global Storage Technologies, San Jose Research Center, 3403 Yerba Buena Road, San Jose, CA 95135, USA. Ricardo.Ruiz@hitachigst.com

Science (New York, N.Y.)
|August 16, 2008
PubMed
まとめ

研究者はブロックコポリマー材料の自己組み立てを指示し,ナノテクノロジーアプリケーションの密度と均一性を大幅に改善した欠陥のない配列を達成しました.

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科学分野:

  • 材料科学 材料科学とは
  • ナノテクノロジー ナノテクノロジー
  • ポリマー化学のポリマー化学について

背景:

  • 自己組み立て可能な材料,特にブロックコポリマーは,ナノテクノロジーにとって極めて重要です.
  • ブロックコポリマーの自己組み立てにおける小さな熱力学的推進力は,しばしば閉じ込められた低エネルギー欠陥につながります.
  • 精密なナノ構造物の製造には,欠陥形成の制御が不可欠である.

研究 の 目的:

  • ブロックコポリマードメインの自己組み立てを欠陥のない配列に誘導する.
  • ナノ構造物の密度と次元均一性を高めるために.
  • 誘導式自己組み立てのための化学的にパターン化された表面の使用を調査する.

主な方法:

  • ブロックコポリマーの自己組み立てを導くために化学的にパターン化された表面を使用しました.
  • 自己組み立てプロセス中に欠陥形成を最小限に抑えるために設計された条件.
  • ドメインの密度,サイズ,および均一性のために結果のナノ構造を分析しました.

主要な成果:

  • 孤立したブロックコポリマードメインの欠陥のない配列を達成しました.
  • 1平方インチあたり1テラビットまでの密度に達しました.
  • 化学パターンと比較して,ドメインの密度が4倍,ドメインのサイズが2倍増加し,次元均一性が大幅に改善されました.

結論:

  • 化学的にパターン化された表面は,ブロックコポリマーの自己組み立てを効果的に導きます.
  • この方法は,高度に秩序づけられた,高密度のナノ構造物の作成を可能にします.
  • このアプローチは,ナノテクノロジーのアプリケーションの密度,サイズ制御,および均一性において大幅な改善を提供します.