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Seth Kruger1, Sri Revuru, Craig Higgins
1College of Nanoscale Science and Engineering, University at Albany, Albany, New York 12203, USA.
極紫外線 (EUV) フォトレジスタ用の新しい酸増幅器が開発されました. これらの化合物は,解像度,感度を向上させ,EUVリトグラフィのラインエッジの粗さ (LER) を減らす酸を生成します.
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