単層の有機シリコンナノシートの合成と光学特性
Yusuke Sugiyama1, Hirotaka Okamoto, Takuya Mitsuoka
1Toyota Central R&D Laboratories., Inc., Nagakute, Aichi 480-1192, Japan. ysugi@mosk.tytlabs.co.jp
Journal of the American Chemical Society
|April 15, 2010
まとめ
原子的に薄いシリコンナノシートを真空処理なしで合成することは,今や可能だ. この突破は,新しい電子機器のアプリケーションのための均一な分散と脱皮を可能にします.
科学分野:
- 材料科学 材料科学とは
- ナノテクノロジー ナノテクノロジー
- 固体化学 固体化学
背景:
- 電子機器のためのシリコンナノシートの製造は,通常,真空プロセスと蒸気堆積を必要とするが,それらは複雑で高価である.
- シリコンナノシートの代替的非真空合成方法の開発は,広範な応用可能性を持つ重要な課題です.
研究 の 目的:
- 酸素のない,フェニル改変した,原子厚さのオルガノシリコンナノシートを合成するための新しい方法について報告する.
- これらのナノシートの可能性を電子機器製造および材料アプリケーションで実証する.
主な方法:
- 有機溶媒における有機シリコン化合物の合成.
- 結果となる原子的に薄いナノシートの特徴.
- 合成された材料における光誘導の光電流の観測.
主要な成果:
- 原子の厚さを持つ,酸素のない,フェニル改変されたオルガノシリコンナノシートを成功裏に合成しました.
- 均一な分散と脱皮を有機溶剤で単層ナノシートに達成する.
- [Si ((6) H ((4) Ph ((2))) ]の材料で観測された光誘導の光電流.
結論:
- 開発された方法は,原子薄シリコンナノシートへの非真空,非蒸気堆積経路を提供します.
- 光電流の生成を含むこれらのオルガノシリコンナノシートのユニークな性質は,新しいオルガノシリコンナノマテリアルの可能性を開きます.
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