3座標のNi(I) シリル複合体の酸化時に,シリコンからニッケルへの1,2-水素の移動を停止した
Vlad M Iluc1, Gregory L Hillhouse
1Gordon Center for Integrative Science, Department of Chemistry, University of Chicago, Chicago, Illinois 60637, USA.
Journal of the American Chemical Society
|August 10, 2010
まとめ
この研究は,新しいニッケル-シリル複合体の合成を詳細に説明しています. シリコン-ニッケル-水素の相互作用を特徴とするニッケル (II) 複合体の結果として,ユニークな3センター,2電子結合が観察されています.
科学分野:
- 有機金属化学 有機金属化学
- 無機化学 無機化学とは
- 協調化化学について
背景:
- 巨大リガンドを持つニッケル複合体は,触媒作用において極めて重要です.
- シリルリガンドは,ユニークな反応性と結合モードを提供しています.
- Ni-Si相互作用を理解することは,新しい触媒システムの開発の鍵です.
研究 の 目的:
- 新規の3座標ニッケル (((I)) シリル複合体を合成し,特徴づけること.
- これらの複合体の反応性,特に酸化と水素移動経路を調査する.
- ニッケル・シリコン化学における異常な結合モチーフを調査する.
主な方法:
- ニッケル (((I)) シリル複合物の合成は,二重性ニッケル (((I)) クロリド複合物の二重性シリルカリウムとの反応による.
- ニッケル (((I) シリル複合体の準備は,ニッケル (((0) 複合体にシリルトリフラートを酸化添加することによって行われます.
- フェロセニウムを用いたニッケル (I) 複合体の1電子酸化によりニッケル (II) 複合体が生成される.
- 顕微鏡および分析技術を用いた結果の複合体の特徴化.
主要な成果:
- 3座標のNi (I) シリル複合体 (dtbpe) Ni (SiHMes) 2) の合成が達成されました.
- Ni(0) 複合体へのMes(2) Si(H) OTfの酸化添加は,Ni(I) シリル複合体への代替経路を提供した.
- 1電子の酸化により,Ni (((II) 複合体,Ni (((dtbpe) Ni (((mu-H) SiMes (((2))) BAr (((F)) ((4)) が生成され,3中心の2電子結合が示された.
- 複合体5は,ネオペンチルニッケル複合塩によるMes(2) SiH(2) 活性化によっても形成された.
結論:
- 新しいニッケル-シリル複合体は,成功裏に合成され,特徴づけられました.
- ニッケル,シリコン,水素を含むユニークな3センター,2電子結合相互作用が発見されました.
- この研究は,シリコン-ニッケル結合形成と反応性の新たな経路を明らかにしている.
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