. .

Christoph Chluba1, Wenwei Ge2, Rodrigo Lima de Miranda1

  • 1Institute for Materials Science, Faculty of Engineering, University of Kiel, Kiel, Germany.

Science (New York, N.Y.)
|May 30, 2015
PubMed
まとめ

この研究では,1000万回以上耐える新しいTiNiCu形状メモリ合金フィルムが導入されています. 微小なTi2Cuの沈殿物は,要求の高いアプリケーションのために,信頼性があり,繰り返し形状メモリ変換を保証します.