Satoshi Kaneko1, Daigo Murai1, Santiago Marqués-González1

  • 1Department of Chemistry, Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology , 2-12-1 W4-10 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8551, Japan.

まとめ

研究者は金属表面の単一分子の吸収部位を 精密に選択するハイブリッド技術を開発しました この突破は,特定の"ブリッジサイト"を特定することによって,分子電子,触媒,および生物学的アプリケーションのより良い制御を可能にします.