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Rhodium ((I) -Catalyzed 高度にエナチオセレクティブのカーベノイドをSi-Hに挿入する:機能的なキラルシランへの効率的なアクセス

Diao Chen ¹, Dong-Xing Zhu ¹, Ming-Hua Xu ¹

⁰State Key Laboratory of Drug Research, Shanghai Institute of Materia Medica, Chinese Academy of Sciences , 555 Zuchongzhi Road, Shanghai 201203, China.

Journal of the American Chemical Society +

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2016年1月23日

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まとめ

新しいロジウム触媒反応により,キラルシリルエステルおよびフォスフォナートを生成するためのエナチオセレクティブSi-H挿入が可能である. この方法は軽度な条件とキラルディエネリガンドを使用して,99%まで高いエナチオ選択性を達成します.

科学分野

有機金属化学
非対称な触媒
合成有機化学

背景

触媒的非対称合成は,エナチオメリックに純粋な化合物を生成するために不可欠です.
ロジウム (I) 触媒は,様々な有機変換で広く使用されています.
Si-H挿入反応は,機能化されたオルガノシリコン化合物への経路を提供します.

研究の目的

第1回ロジウム ((I)) 触媒によるエナチオセレクティブSi-H挿入反応の開発.
高いエナチオ選択性を持つキラルα-シリルエステルとフォスフォナートを合成する.
反応のメカニズムとステレオ化学的経路を解明する.

主な方法

非対称性誘導のためにC1対称性キラルダイエンのリガンドを使用した.
Si-H挿入反応のためのロジウム (I) 触媒を使用した.
デウテリウム運動同位体効果実験とDFT計算を用いた反応機構の調査.

主要な成果

ロジウムによって触媒化されたα-ディアゾエステルとα-ディアゾフォスフォナートの最初のエナチオセレクティブSi-H挿入を達成した.
優れたエナチオ選択性 (最大99% ee) を有する多用途のキラルα-シリルエステルとフォスフォナートが得られる.
反応は例外的に穏やかな条件下で進行した.

結論

開発されたロジウム ((I) 触媒反応は,キラル有機シリコン化合物の非対称合成のための非常に効果的な方法である.
特定のキラルディエネリガンドの使用は,穏やかな条件下で高いエナチオ選択性を達成するための鍵です.
メカニズムの研究により,Rh ((I) カーベンの誘導によるSi-H挿入経路の洞察が得られた.

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