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シリコン・カーボン・ボンドの形成は,ニッケル触媒によるシリコン・ヌクレオフィルと非活性化された二次および三次アルキル・エレクトロフィルの交互結合による.

Crystal K Chu ¹, Yufan Liang ¹, Gregory C Fu ¹

⁰Division of Chemistry and Chemical Engineering, California Institute of Technology , Pasadena, California 91125, United States.

Journal of the American Chemical Society +

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2016年5月18日

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まとめ

研究者は非活性化アルキルハリドを用いて炭素-シリコン結合を形成するための新しいニッケル触媒方法を開発しました. この画期的な発見により厳しい三次アルキルハリドの結合が穏やかな条件下で可能になり交互結合化学が進んでいます

科学分野

有機化学
カタリシス
合成方法論

背景

活性化されていないアルキル電ophilesのクロスカップリングによる炭素-炭素結合の形成に顕著な進歩が存在する.
炭素・ヘテロ原子結合,特にC−Si結合のクロスカップリング方法の開発は遅れている.
未活性化された二次性または三次性アルキルハリドとシリコンヌクレオフィルの金属触媒クロスカップリングに関する事前の報告はありません.

研究の目的

活性化されていないアルキル電ophilesを使用してC-Si結合を形成する課題に取り組む.
アルキルハリドとシリコン核愛素の交互結合のための新しい方法を確立する.

主な方法

商業的に利用可能なニッケル触媒 (NiBr2·diglyme) を使用した.
結合パートナーとして核性シリコン反応剤を使用しています.
三次アルキルハリドを含む活性化されていないアルキルブロミドの結合を調査した.

主要な成果

アルキルブロミドとシリコン・ヌクレオフィルの交互結合が穏やかな条件 (−20°Cまで) で成功しました.
活性化されていない三次アルキルハリドの電離結合パートナーとしての有用性が示され,重要な進歩である.
ステレオ化学,相対反応性,およびラジカル・トラップの研究は,炭素-ハリド (C-X) 結合の解離経路を示した.

結論

活性化されていないアルキルハリドからC-Si結合を合成するための新しい効率的なニッケル触媒法を確立した.
三次アルキルハリドを使用するこの方法の能力は,クロスカップリング化学における重要な突破口を表しています.
この発見は,この新しい変換のメカニズム的な洞察を提供する,同解のメカニズムを示唆しています.

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