ポリマーブラシのサブミクロンパターニング:ポリエレクトロライトマクロイニシアターのインクジェット印刷による予期せぬ発見
Adam V S Parry1, Alexander J Straub1,2, Eva M Villar-Alvarez1,3
1The School of Chemistry and ‡The School of Materials, The University of Manchester , Oxford Road, Manchester M13 9PL, U.K.
Journal of the American Chemical Society
|July 12, 2016
まとめ
研究者らはインクジェット印刷と制御されたイオン強度を使用して,サブミクロンポリマーブラシのパターンを作成する新しい方法を開発しました. この技術により,高解像度ポリマーブラシを高度な材料の適用のために300 nmまで沈殿させることができます.
科学分野:
- ポリマー化学
- 材料科学
- ナノテクノロジー
背景:
- 高度な材料の製造には 制御されたポリメリゼーション技術が不可欠です
- ポリマーブラシのサブミクロンパターニングは,電子や生物医学での応用に不可欠です.
研究 の 目的:
- ポリマーブラシの高解像度サブミクロンパターニングのための新しい方法を開発する.
- 静電インクジェット印刷とイオン強度操作を使用してポリマーブラシの成長とパターンを制御する可能性を実証する.
主な方法:
- 高解像度のポリエレクトロライトマクロイニシアター,静電式超インクジェットプリンターを使用.
- 表面誘発型原子移転ラジカルポリメリゼーション (SI-ARGET-ATRP) による制御されたポリマーブラッシュ成長.
- 同様な電荷を持つポリエレクトロライトホモポリマーを加えたり,イオン強度を正確に制御することによって達成されるサブミクロンパターニング.
主要な成果:
- ポリマーブラシの高解像度沈殿が約300 nmまで達成された.
- ポリマーブラッシュの成長で新しいサブミクロンパターンの現象を証明した.
- 観察されたパターンのメカニズムモデルを提示し,その一般的な適用性について議論した.
結論:
- 開発された方法は,ポリマーブラシのサブミクロンパターニングに多岐にわたるアプローチを提供します.
- この技術は,ナノスケールの精度を必要とする様々なポリエレクトロライトベースのシステムに潜在的な応用があります.
- この研究は,制御された特徴を持つ複雑なポリマーアーキテクチャを製造するための新しい道を開きます.
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