ボリル置換されたオキシブリッジされたマスクされたビスシリレン:合成と還元-除去,および相乗酸化-添加反応性

Yazhou Ding¹, Wen Jin¹, Jianying Zhang¹

¹State Key Laboratory of Elemento-Organic Chemistry and Frontiers Science Center of New Organic Matter, Nankai University, Tianjin 300071, People's Republic of China.

Journal of the American Chemical Society

|September 25, 2024

まとめ

ディシリンを制御した酸化により,オクソブリッジされたビシレピンが生み出され,ビシレンの反応性が顕著であった. この化合物は,様々な小分子と有機基質と容易に反応し,新しい多環ビシランを形成する.

科学分野:

オルガノシリコン化学
メイングループ化学
反応メカニズム

背景:

ディシリネは,シリコン-シリコン三重結合を特徴とするアルキンのシリコン類である.
安定したディジリネは,様々な変異を起こす反応性のある中間物質である.
シリコン化合物の反応性を理解することは,新しい合成方法論の開発に不可欠です.

研究の目的:

安定したディジリンから新しいオクソブリッジビシレピンを合成し,特徴づけること.
小分子と有機基質とのビシレピンの反応性を調査する.
DFT計算を用いて反応メカニズムを解明する.

主な方法:

トリメチラミンN酸化物を用いてNHBで安定したディジリンを制御した酸化.
生成されたビシレピンと水,硫黄,リン,シラン,アルキン,ピリジン,カルベン,ケトン,チオフェンの反応.
反応経路と中間安定性を研究するための密度関数理論 (DFT) の計算.

主要な成果:

ディシリン1からオクソブリッジされたビシレピン2の高産量合成
ビシレピン2は, reduktive- eliminationと oxidative- additionの反応を経て,顕著なビシリレン反応性を表している.
多様な基板との反応により,新しい多環ビシラン (化合物3-12) の形成.

結論:

合成されたビシレピンは,様々なオルガノシリコン化合物を生成するための多機能な前駆体である.
ビシレピンとビシリレンの中間物質の相互変換のための低エネルギーバリアは,その反応性を説明する.
この研究は,シリコン化学における新しい合成経路と反応パターンを強調しています.

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