PEEK超音波チップとセメントの有効性は,インプラントサポートされた修復の周辺の残留セメントに

科学分野:

• 歯科 材料 科学
• バイオ材料工学
• 義歯科

背景:

• インプラントで支えられた修復の周辺の残留セメントは,潜在的に周辺インプラント炎につながる重大な臨床的懸念です.
• 過剰なセメントを効果的に除去することは 長期的なインプラントの成功と患者の健康に不可欠です

研究 の 目的:

• ポリエーテル・エーテル・ケトン (PEEK) の超音波チップがインプラントの修復からセメント残留物を除去する効果を評価する.
• 浄化後に異なるセメントタイプ (ポリカルボキシレート,ガラスイオノマー,樹脂) が残すセメントの量を比較する.

主な方法:

• 歯科用エクスプローラーのみを使用するか,エクスプローラーを使用した後のPEEK超音波チップを使用して,インプラントモデルにセメントされた72個のジルコニアクラウンを清掃しました.
• コロナはセメントの種類によって分類された:ポリカルボキシレート,ガラスイオノマー,または樹脂セメント.
• 残留セメントはAdobe Photoshopでデジタル写真とピクセルベースの分析を使用して定量化されました.

主要な成果:

• 歯科用探検器のみを使用すると比較して,PEEK超音波チップによる清掃が有意に減少しました (p = 0.002).
• 樹脂セメントは残留セメントの量が最小で,ガラスのイオノマーとポリカルボキシラートセメントは残留量が大幅に増加した (p < 0.001).

結論:

• PEEK超音波チップは,インプラントの修復から残留セメントを除去するための臨床的に有利な方法です.
• 樹脂セメントは,ポリカルボキシレートとガラスイオノマーセメントと比較して,この文脈で優れた限界の清潔性を提供します.