高解像度3次元欠陥局在化のための横走査スルーフォーカス顕微鏡検査

科学分野:

• 光学計測
• 材料科学
• 品質管理

背景:

• サブサーフェス欠陥の正確な3次元局在化は、製造および検査にとって不可欠です。
• 従来の光学的手法は、広視野と高い局在化精度の両方を達成する上で限界に直面しています。

研究 の 目的:

• 透明サンプル中のサブサーフェス欠陥の精密な3次元局在化と検出のための高度な顕微鏡技術を開発すること。
• 透明サンプルにおける従来の光学測定技術の限界を克服すること。

主な方法:

• 横走査スルーフォーカス顕微鏡システムを提案しました。
• 光軸の傾斜を利用して、単一の画像内でさまざまな深さの欠陥を捉えました。
• 広視野3次元局在化のための水平走査を統合しました。

主要な成果:

• リングライト照明を用いたSiO2サンプルにおける3次元欠陥局在化でサブピクセル精度を達成しました。
• 奥行き測定における相対標準偏差0.77%を実証しました。
• マイクロ球サンプルで広視野3次元局在化能力を検証しました。

結論:

• 提案された横走査スルーフォーカス顕微鏡検査は、サブサーフェス欠陥の正確な広視野3次元局在化を可能にします。
• リングライト照明は、局在化精度と精度を大幅に向上させます。
• このシステムは、透明材料の非破壊検査のための有望なソリューションを提供します。